LIMPEZA A PLASMA PARA MELHORAR A ADESÃO SUPERFICIAL DE FILMES DE ÓXIDOS DE TITÂNIO - Guerra Neto, Custodio Leopoldino de Brito; Silva, Marco Aurélio Medeiros da; Coutinho, Karilany Dantas; Wanderley, Caroline Dantas Vilar; Guerra, Paulo Victor de Azevedo (Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde - ISSN:2236-1103, 2013)
O tratamento para modificação superficial requer um substrato com alto grau de limpeza, a fim de promover um aumento da energia superficial e melhorar a adesão da camada formada ao substrato. Técnicas que estão em crescente uso possuem geralmente o plasma como fonte energética. Nesse trabalho, utilizou-se o plasma produzido em descarga por cátodo oco, com diferentes atmosferas, a fim de estudar a sua influência na despassivação da superfície de titânio. Foram utilizadas 06 placas de Ti cp (grau II), de tamanho 10 x 10 x 1 mm. Estas amostras foram divididas em três grupos para limpeza a plasma em catodo oco com atmosfera de Ar, H2 e Ar/H2 (50-50%) a pressão em torno de 0,7 mbar e temperatura de 200°C nos tempos de 20 e 60 minutos e seguido uma condição de oxidação a plasma a 500oC por 1 hora, com teor 10 % de O2 numa pressão de 2,2 mbar. Após oxidação as amostras foram submetidas à avaliação através de análise de ângulo de contato pela técnica da gota séssil (molhabilidade), análise por difração de raios-X (DRX) e rugosidade.